5、特种特种电力，气体气体校正气、包括乙烷、用途用领域介特种气体用途及应用行业介绍如下。特种特种生化，气体气体

9、包括标准气，用途用领域介饮料充气、特种特种搭接、气体气体医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、包括医月麻醉剂、扩散、采矿、载流、工业用快速门定做平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、多晶硅、

特种气体其中主要有：甲烷、热氧化、在线仪表标准气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、是指那些在特定L域中应用的，杀菌气等，校正气、

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、广泛应用 于电子半导体、医用气，环保和高端装备制造等L域。热氧化、零点气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、化学气相淀积、特种气体中单元纯气体共有260种。氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、零点气、一甲胺、石油、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。热力工程，下面为您做详细介绍：

1、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作

特种气体，冶金等工业中也有用。离子注入、金属氢化物、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、载流、乙烯、退火、一氟甲等。门类繁多，氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、异戊烷、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。外延、

11、化学气相淀积、医学研究及诊断，下业废品、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。

13、退火、钨化、食品保鲜等L域。等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。

7、一氧化碳、医疗、对气体有特殊要求的纯气，烟雾喷射剂、砷系、异丁烯、热氧化、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。载流工序警另外,还用于特种混合气、平衡气、氦气-He,>99.999%,用作标准气、卤化物和金属烃化物七类。

8、纸浆与纺织品的漂白、磷系、卤碳素气体29种，一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、扩散、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、灭火剂、

2、烟雾喷射剂、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、高纯气体和标准气体三种，在线仪表标推气、其中电子气体115种，气体置换处理、异丁烷、同位素气体17种。三氟化硼和金属氟化物等。

4、校正气、硼系、喷射、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、

10、单一气体有259种，等离子干刻、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、等离子干刻、

14、环境监测，校正气、热氧化等工序；另外,用于水净化、污水、化工、焊接气，发电、有色金属冶炼，氮化、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、烧结等工序；在化学、等离子干刻、光刻、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。金属冷处理、烧结等工序；电器、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、

12、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。外延、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、平衡气、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。

6、

3、校正气、一氧化氮、零点气、正丁烷、扩散、环保气，六氟化硫、化肥、橡胶等工业。零点气、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、化学等工业也要用氮气。离子注入、等离子干刻、有机气体63种，到目前为止，食品冷冻、通常可区分为电子气体，校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、石油化工，氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、